求个av网站 EUV光刻机，糜掷电量与一座小城市相当
EUV光刻机求个av网站，耗电问题很严峻。
极紫外 (EUV) 光刻时候关于改日数年当代工艺时候和半导体制造至关遑急。然则，每台 EUV 光刻机的耗电量为 1，400 千瓦（足以为一座小城市供电），EUV 光刻系统已成为影响环境的大批电力糜掷者。TechInsights 觉得 ，到 2030 年，悉数配备 EUV 光刻机的晶圆厂的年耗电量将逾越 54，000 千兆瓦 (GW)，这比新加坡或希腊等很多国度每年的耗电量还要多。
目下的低 NA EUV 扫描仪需要高达 1，170 kW 的功率，而下一代高 NA 器用展望每台需要高达 1，400 kW 的功率（字据 TechInsights）。英特尔、好意思光、三星、SK 海力士，天然还有台积电运营的晶圆厂安装的此类机器数目每年皆在加多。
TechInsights 觉得，到 2030 年，配备 EUV 扫描仪的晶圆厂数目将从当今的 31 家加多到 59 家，运行中的开垦数目将加多一倍附近。因此，悉数安装的 EUV 系统每年将糜掷 6，100 GW 的电力，这意味着到其时将罕见百台机器进入运行。
6，100 GW/年的耗电量（与卢森堡相当）不算多。然则，制造每颗先进芯片需要 4，000 多个武艺，而晶圆厂中罕见百种器用。EUV 开垦约占晶圆厂总用电量的 11%，其余部分由其他器用、HVAC、秩序系统和冷却开垦构成。因此，悉数配备低 NA 和高 NA EUV 光刻机的晶圆厂的耗电量推断将加多到 54，000 GW/年。
具体来说，每年 54，000 千兆瓦的电力大致是 Meta 数据中心在 2023 年糜掷的电力的五倍。这也逾越了新加坡、希腊或罗马尼亚每年的电力糜掷，是拉斯维加斯正途每年电力糜掷的 19 倍多。然则，诚然这是一个相当大的电力量，但它仅占 2021 年人人电力糜掷（25，343，000 千兆瓦/年）的 0.21%，这是一个相当小的份额。
很容易推断，要是 59 个配备 EUV 光刻机的顶端半导体分娩秩序每年糜掷 54，000 GW，则每个秩序每年将糜掷 915 GW，与开头进的数据中心的电力糜掷相当。
展望到 2030 年，配备 EUV 的晶圆厂数目将加多近一倍，而电力糜掷也将加多一倍以上，电力基础秩序将面对要紧挑战，因为即使在今天，AWS、谷歌、Meta 和微软等公司仍在悉力寻找所在竖立 兆瓦和千兆瓦级数据中心 ，因为电网必须大致措置它们。
如今，像英特尔这么的芯片制造商倾向于只使用可捏续的绿色动力，但目下他们的电力糜掷有限。跟着东说念主工智能数据中心电力需求的不断增长， AWS、 微软和 甲骨文 权衡使用核电站为其数据中心供电。也许几年后芯片制造商也不得不洽商使用核电。然则，电网是否能在短短六年内为东说念主工智能数据中心、先进晶圆厂、家庭和其他行业供电仍有待不雅察。
TechInsights 追忆说念：“为了确保可捏续的改日，该行业需要投资节能时候、探索可再机动力，并与战略制定者合营猛烈电力基础秩序的挑战。通过这么作念，他们将大致彭胀半导体的功率，同期最大畛域地减少其对环境的影响。”
日本开发出EUV光刻新时候，耗电量降至1/10
日本冲绳科学时候大学院大学开发出一项时候，大致大幅镌汰制造最顶端半导体所需的极紫外线（EUV）光刻开垦的耗电量和制变资本。这项时候将从开垦的光源到光刻的EUV旅途上设置的反光镜数目从原本的10个减少到4个。这么不错权臣减少EUV光源的耗电量。该大学将与企业合营，力图达成这种开垦的日本国产化。
上述新时候由冲绳科学时候大学院大学的新竹积解说开发。目下，EUV光刻开垦由荷兰半导体制造开垦巨头ASML控股独家供应。现存开垦的旨趣是使用激光器产生EUV，并通过10个镜子漏洞反射到达晶圆，达成电路图案的转印，异常复杂。
EUV的能量每经一次反射就会衰减40%，因此最终仅有1%附近的能量大致到达晶圆。而新时候只用4个反光镜，有10%以上的能量大致到达晶圆。以EUV光源为中心，举座耗电量可减至原本的约十分之一。开垦的结构也可大幅简化，因此刻下推断需要200亿日元附近的开垦引入资本也险些不错减半。
冲绳科学时候大学院大学今后将诓骗本体开垦二分之一大小的安设求个av网站，使用发光二极管（LED）进行考据查考，然后从2025年头始诓骗EUV进行考据。新竹解说示意，“咱们但愿与企业合营，最早2026年开发出第一台开垦”。